第一章：集成电路基础理论

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第一章：集成电路基础理论 mermaid graph TD 纯净硅晶格 --> 本征激发[热激发产生电子空穴对] 本征激发 --> 费米能级居中[EF位于禁带中央] 掺入磷原子 --> n型半导体[多数载流子为电子] 掺入硼原子 --> p型半导体[多数载流子为空穴] n型与p型接触 --> 形成p-n结[内建电场阻止扩散] p-n结加正向偏压 --> 导通电流[空穴电子复合发光或发热] p-n结加反向偏压 --> 截止状态[仅有微小漏电流] mermaid graph LR 高纯多晶硅 --> 直拉法生长[拉制单晶硅锭] 单晶硅锭 --> 切片抛光[制成晶圆] 晶圆 --> 离子注入机[精确注入杂质离子] 离子注入机 --> 快速退火炉[激活杂质并修复晶格] 退火后晶圆 -->