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4.1 自上而下：光刻家族 本节摘要： 光刻是用光把图形从掩模版转移到抗蚀剂再转移到材料上的工艺，是半导体工业的心脏。本节讲光学光刻的原理与衍射极限攻防史（浸没、多重图形、极紫外），以及电子束与聚焦离子束在精度与吞吐量上的取舍，最后给出光刻族工艺的选型逻辑。 先看懂一台光刻机在干什么 光学光刻的流程五步，值得完整走一遍。涂胶：硅片旋涂光敏抗蚀剂，厚度从数百纳米到几十纳米。 会员。《4.1 自上而下：光刻家族》收录于灏天文库文集《纳米科学与工程》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

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原文： https://aiknowledge.cn/collection/615-%E7%BA%B3%E7%B1%B3%E7%A7%91%E5%AD%A6%E4%B8%8E%E5%B7%A5%E7%A8%8B

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