1.1.2 漏电机制:亚阈值摆幅 (SS) 与漏极诱导势垒降低 (DIBL)


文档摘要

1.1.2 漏电机制:亚阈值摆幅 (SS) 与漏极诱导势垒降低 (DIBL) 在2023年Q4的一次量产良率复盘会上,某12nm FinFET逻辑芯片的静态功耗($I{\text{static}}$)超标问题让整个后端团队连续熬了三个通宵。ATE测试数据显示:在 $V{\text{DD}} = 0.75\,\text{V}$、$T = 85^\circ\text{C}$ 条件下,约6.2%的芯片单元漏电流突破 $120\,\text{nA}/\mu\text{m}$ 阈值——而签核(signoff)模型预测值仅为 $48 \pm 5\,\text{nA}/\mu\text{m}$。这不是仿真与实测的常规偏差,这是物理机制在芯片上刻下的“真实指纹”。


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