2.1.3 有效沟道宽度 (Weff) 的计算公式及其离散化特性

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2.1.3 有效沟道宽度 (Weff) 的计算公式及其离散化特性当仿真结果在 $10\,\text{nm}$ 工艺节点上突然“跳变”：一个关于 $W{\text{eff}}$ 离散化陷阱的凌晨三点故障复盘凌晨 3:17，FAB23 的 TCAD 仿真队列又卡住了。不是收敛失败，不是内存溢出，也不是网格剖分报错——而是同一个器件结构，在 $W=40\,\text{nm}$ 和 $W=41\,\text{nm}$ 下，$I{\text{on}}$ 相差 $18.6\%$；而 $W=42\,\text{nm}$ 时，电流却回落到仅比 $40\,\text{nm}$ 高 $2.3\%$。三次连续扫描，曲线像心电图进了电焊机——锯齿状、非单调、不可导。