7.1.1.1 NbTi线圈设计

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7.1.1.1 NbTi线圈设计 7.1.1.1 NbTi线圈设计：当临界电流密度在4.2 K、12 T下突然“塌方”——一个被忽略的Cu/NbTi界面氧扩散陷阱与现场补救方案凌晨两点十七分，超导测试间冷凝水在低温杜瓦外壁爬出细密水珠，像一串未写完的省略号。我盯着示波器上那根刚绕制完成的NbTi双饼线圈的I-V曲线——在12 T、4.2 K稳态场下，临界电流 $ Ic $ 突然从预期的 382 A 滑落到 296 A，跌幅达 22.5%。没有失超警报，没有热斑信号，连quench detection loop的dI/dt阈值都纹丝不动。它不是“炸了”，而是“蔫了”——像一株被悄悄抽走养分的植物，在最该挺立的时刻弯下了脊梁。这不是仿真误差。不是计算模型没考虑各向异性。