1.1 光刻技术演进与产业地位

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1.1 光刻技术演进与产业地位光刻，是集成电路制造中那支最纤细、最精准、也最执拗的“原子级画笔”。它不直接蚀刻沟槽，却决定沟槽能否诞生；它不沉积薄膜，却裁定薄膜上何处该被保留、何处必须消隐；它不测量电流，却以纳米为尺，为每一代晶体管的开关速度、功耗边界与集成密度写下第一行判词。当人们谈论摩尔定律的延续、谈论3纳米芯片的良率、谈论AI加速器中千亿晶体管的协同——所有这些宏大叙事的物理起点，都悄然落在一片直径300毫米的硅片表面，落在一束经过精密调控的极紫外光所勾勒出的、肉眼不可见的明暗交界线上。这束光，不是自然之光，而是人类对物理极限反复叩问后凝练出的工程结晶；