5.3.2 衰减型相移掩模（Att-PSM）

文档摘要

5.3.2 衰减型相移掩模（Att-PSM）在光刻工艺的精密世界里，掩模不再只是“黑白分明”的模板——它早已进化成一曲光波与相位共舞的交响。当你把一束波长为193 nm的ArF准分子激光投向晶圆，那道看似简单的明暗边界，实则是电场矢量在空间中剧烈干涉的战场。传统二元掩模（Binary Mask）在此处节节败退：当线宽逼近100 nm，衍射效应让图像对比度崩塌，焦深急剧收窄，套刻误差悄然放大。此时，一个看似反直觉的解法浮出水面——不靠完全阻挡光，而靠“部分透光+精确控相”来重构图像边缘的干涉结构。这，就是衰减型相移掩模（Attenuating Phase-Shifting Mask, Att-PSM）的底层逻辑。