5.4.1 基于规则的OPC（Rule-based）

文档摘要

5.4.1 基于规则的OPC（Rule-based）在光刻工艺的精密世界里，掩模版上的图形从来不是“所见即所得”。当设计规则迈入28nm以下节点，波长与特征尺寸之比（$k1$）持续逼近物理极限，衍射效应便如影随形——线条边缘模糊、拐角圆化、孤立线变粗、密集线变细……这些并非工艺失控的征兆，而是麦克斯韦方程在硅片上写就的必然诗行。光学邻近效应（Optical Proximity Effect, OPE）正是这组诗中最顽固的韵脚：它不声不响地扭曲图形传递，却在晶圆上留下不可逆的形貌偏差。