7.2.1 像素化光源（Pixelated Source）设计

文档摘要

7.2.1 像素化光源（Pixelated Source）设计在光学邻近效应校正（OPC）与计算光刻的演进长河中，源掩模联合优化（Source-Mask Co-Optimization, SMO）绝非一个被轻描淡写带过的技术节点——它是一道分水岭，将传统“掩模先行、光源固定”的经验式光刻推向了“光源与掩模共生演化”的物理驱动范式。而在这套协同优化体系的底层锚点，正是像素化光源（Pixelated Source）设计。它不是对传统环形光源（Annular）、偶极光源（Dipole）或四极光源（Quadrupole）的简单离散采样；