文档摘要

7.2.1 像素化光源（Pixelated Source）设计 在光学邻近效应校正（OPC）与计算光刻的演进长河中，源掩模联合优化（Source-Mask Co-Optimization, SMO）绝非一个被轻描淡写带过的技术节点——它是一道分水岭，将传统“掩模先行、光源固定”的经验式光刻推向了“光源与掩模共生演化”的物理驱动范式。而在这套协同优化体系的底层锚点，正是像素化光源（Pixelated Source）设计。 会员。《7.2.1 像素化光源（Pixelated Source）设计》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。文档编号62427。

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