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6.2 计算光刻与掩模优化 6.2 计算光刻与掩模优化：在衍射极限边缘重写物理法则的数字炼金术 当摩尔定律的钟摆一次次逼近量子隧穿的悬崖，当晶体管栅极宽度缩至不足15纳米——比流感病毒还细十倍，比单个DNA螺旋直径还窄三倍——我们终于不得不承认：硅基文明的下一段史诗，不再由晶体管尺寸的单纯缩小书写，而由一束光如何被“驯服”来决定。光，这人类最早认知的自然现象之一，在21世纪的芯片工厂里，正经历一场静默却彻底的范式革命。 会员。《6.2 计算光刻与掩模优化》收录于灏天文库文集《电子设计自动化（EDA）技术与算法》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

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原文： https://aiknowledge.cn/collection/874-%E7%94%B5%E5%AD%90%E8%AE%BE%E8%AE%A1%E8%87%AA%E5%8A%A8%E5%8C%96eda%E6%8A%80%E6%9C%AF%E4%B8%8E%E7%AE%97%E6%B3%95

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