5.2.2 版图绘制与验证（DRC/LVS）
文档摘要
5.2.2 版图绘制与验证（DRC/LVS） 在集成电路物理设计的浩瀚星图中，若把前端逻辑综合比作建筑师绘制蓝图，那么版图绘制与验证（DRC/LVS）就是施工队真正浇筑钢筋、绑扎线缆、逐寸校验承重结构的生死关口。它不生产功能，却决定一切功能能否真实存在；它不定义时序，却让所有时序约束失去意义——倘若一根金属1层（M1）连线在版图中被错误地缩窄了20nm，哪怕RTL仿真再完美、STA签核再干净，芯片流片后也注定开不了机。 会员。《5.2.2 版图绘制与验证（DRC/LVS）》收录于灏天文库文集《硅光子技术》，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。文档编号64407。
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