5.2.2 版图绘制与验证(DRC/LVS)


文档摘要

5.2.2 版图绘制与验证(DRC/LVS) 在集成电路物理设计的浩瀚星图中,若把前端逻辑综合比作建筑师绘制蓝图,那么版图绘制与验证(DRC/LVS)就是施工队真正浇筑钢筋、绑扎线缆、逐寸校验承重结构的生死关口。它不生产功能,却决定一切功能能否真实存在;它不定义时序,却让所有时序约束失去意义——倘若一根金属1层(M1)连线在版图中被错误地缩窄了20nm,哪怕RTL仿真再完美、STA签核再干净,芯片流片后也注定开不了机。这不是理论推演,而是过去十年中超过37%的首次流片失败案例背后反复浮现的幽灵。


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