5.2 均匀vs非均匀加宽:烧孔与模式竞争


文档摘要

5.2 均匀vs非均匀加宽:烧孔与模式竞争 本节摘要:谱线加宽分两大阵营:均匀加宽(自然、碰撞)里每个粒子贡献整条线形,强光饱和时全谱线一起压扁,模式竞争赢者通吃;非均匀加宽(多普勒)里粒子按速度分组各占一段频率,强光只在增益曲线上烧出"孔",多模和平共处。烧孔衍生出兰姆凹陷,单频运转的难度在两个阵营里截然不同——这是模式行为差异的总根源。 第 3 章给介质贴过"多普勒加宽/准均匀加宽"的标签,本节补齐机制与后果。 会员。《5.2 均匀vs非均匀加宽:烧孔与模式竞争》收录于灏天文库文集《激光物理》,原作者/来源:灏天文库,整理自「灏天文库」,提供技术教程、实践指南与问题解决方案,支持在线阅读、全文检索与知识沉淀,助力开发者系统化学习。本站整理收录,版权归原作者/开源协议所有。

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