文档摘要

3.2.2.2 原子层沉积（ALD） ALD腔室温度梯度失控：当热电偶漂移成为薄膜厚度均匀性的隐形杀手 凌晨两点十七分，Fab 23B的ALD主控屏上，第142片SiO₂/HfO₂叠层晶圆的椭偏仪实测厚度曲线在边缘区域突然塌陷——中心厚度5.82 nm，半径12 mm处跌至5.41 nm，而晶圆最外缘（r = 75 mm）竟只有4.96 nm。标准差σ = 0.18 nm，远超工艺窗口上限0.07 nm。 会员。《3.2.2.2 原子层沉积（ALD）》收录于灏天文库文集《光子晶体》，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。文档编号54558。

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