3.4.2.2 热膨胀补偿策略


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3.4.2.2 热膨胀补偿策略 热膨胀补偿不是“加个系数”就完事——一个套刻偏移突变23nm的深夜故障与它的解药 凌晨两点十七分,Fab A-7线EUV光刻机报警灯第三次亮起。 不是常规的剂量偏差,不是掩模台抖动,而是套刻误差(Overlay Error)在连续五片晶圆中呈现阶梯式跃升:从标称的±1.8nm一路爬升至+2.3nm、+4.1nm、+7.9nm……最终停在+23.6nm——超出了工艺窗口(Process Window)红线的整整三倍。 OPC工程师说“掩模没问题”,对准系统自检报告写着“ALL GREEN”,温控日志显示腔室温度波动小于±0.05℃。 没人相信是热的问题。


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