文档摘要

8.1 模拟版图：与统计学做几何斗争 本节摘要：失配分随机与系统两族：随机项由掺杂与氧化层厚度的微观涨落决定，佩尔格姆模型给出失配方差约等于面积常数除以WL——面积翻十六倍失配才减半；系统项来自工艺梯度（温度、应力、注入倾斜）与边界效应，用共质心与叉指几何对消、用哑单元垫边界。本节给出三板斧的原理与电流镜、差分对、电容阵列的标准版图套路，对照模拟与数字版图的目标差异。 会员。《8.1 模拟版图：匹配技术与失配的来源》收录于灏天文库文集《CMOS模拟集成电路设计》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

该文档为会员专享，请先登录或注册后再查看

登录 注册

---

作者与出处

原作者： 灏天文库

来源：灏天文库

原文： https://aiknowledge.cn/collection/846-cmos%E6%A8%A1%E6%8B%9F%E9%9B%86%E6%88%90%E7%94%B5%E8%B7%AF%E8%AE%BE%E8%AE%A1

整理： 灏天文库整理

由灏天文库平台收录，内容或由平台用户上传，仅供学习交流