8.2 可靠性设计:电迁移与击穿的对照


文档摘要

8.2 可靠性:十年以后芯片还好吗 本节摘要:可靠性设计管的是"刚流片好"与"十年后还活着"的差距。两大物理红线对照:电迁移(大电流把金属原子搬家,线阻涨到断路,靠电流密度上限算线宽与通孔数)、击穿(栅氧经时击穿与热载流子退化把阈值漂移,靠电压降额与保护电路)。再加上三件混合信号事故源:天线效应、闩锁、ESD。本节给出每项的机制、设计规则量级与防护套路。 上一节管"做得准",本节管"活得久"。 会员。《8.2 可靠性设计:电迁移与击穿的对照》收录于灏天文库文集《CMOS模拟集成电路设计》,原作者/来源:灏天文库,整理自「灏天文库」,提供技术教程、实践指南与问题解决方案,支持在线阅读、全文检索与知识沉淀,助力开发者系统化学习。本站整理收录,版权归原作者/开源协议所有。

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