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2.3 工件台与对准系统 2.3 工件台与对准系统：光刻机中沉默的精密心脏 在光刻工艺的宏大交响中，光源是指挥家，掩模是乐谱，投影物镜是放大器——而工件台与对准系统，则是那位屏息凝神、以纳米为呼吸单位的首席小提琴手。它不发光，不投影，不遮蔽；它只移动、定位、感知、校正、等待，在毫秒级的时间窗口里完成亚纳米级的空间承诺。当ASML NXT:2050i以135 wph（晶圆每小时）吞吐量运行时，其双工件台正以±1. 会员。《2.3 工件台与对准系统》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

来源：灏天文库

原文： https://aiknowledge.cn/collection/857-%E5%85%89%E5%88%BB%E5%B7%A5%E8%89%BA%E5%AD%A6

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