3.2.1 非化学放大光刻胶（DNQ/Novolac）

文档摘要

3.2.1 非化学放大光刻胶（DNQ/Novolac）在半导体光刻工艺的漫长演进史中，若将化学放大光刻胶（CAR）比作一场精密的“分子级核裂变”——一个光酸分子触发数百乃至上千次去保护反应，那么DNQ/Novolac体系，便是那台仍在稳定运转、却早已被时代聚光灯悄然移开的“蒸汽机车”。它不靠催化链式反应，不依赖后烘（PEB）中的热扩散放大，而是以一种近乎古典的确定性，在紫外光与酚醛树脂的界面，完成一场可预测、可重复、可建模的光化学博弈。这并非落伍，而是一种被低估的稳健；不是妥协，而是在0.35–0.25 μm技术节点上，用最朴素的物理化学原理，筑起一道至今仍不可绕过的工艺基准线。