5.1 瑞利判据与分辨率极限

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5.1 瑞利判据与分辨率极限第五章：分辨率增强技术（RET） 5.1 瑞利判据与分辨率极限：光刻物理边界的守门人与破壁者在集成电路制造的宏大叙事中，光刻工艺从来不是一场孤立的技术演出——它是一场精密的物理、材料、光学与计算科学共同谱写的交响。当设计规则从微米迈入纳米，再滑向亚纳米量级，光刻系统所面对的，早已不是“能否成像”的工程问题，而是“物理是否允许成像”的根本诘问。而在这场诘问的起点，矗立着一个看似古老却历久弥新的标尺：瑞利判据（Rayleigh criterion）。它不喧哗，不炫技，却以最朴素的数学形式，为整个光刻工业划下了一道不容逾越的物理分水岭。这道分水岭，既是约束，亦是召唤；既是终点，亦是起点。