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5.4 光学邻近效应修正（OPC） 第五章 分辨率增强技术（RET） 5.4 光学邻近效应修正（OPC）：在衍射极限边缘重写物理现实的精密编译术 当一束波长为193 nm的深紫外光穿过掩模版上几纳米宽的铬图形，在硅片表面投下并非“所见即所得”的影像——它更像一首被空气扰动过的竖琴曲：线条末端微微膨起，转角处悄然内凹，孤立线比密集线更细，而两个相邻方块之间的间隙却比设计值宽出12%。 会员。《5.4 光学邻近效应修正（OPC）》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

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原文： https://aiknowledge.cn/collection/857-%E5%85%89%E5%88%BB%E5%B7%A5%E8%89%BA%E5%AD%A6

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