5.4.3 辅助图形（SRAF）的添加策略

文档摘要

5.4.3 辅助图形（SRAF）的添加策略在先进光刻工艺中，当制程节点迈入28nm以下，特别是进入14nm、7nm乃至3nm技术代时，光学衍射效应已不再是“边缘扰动”，而成为决定图案保真度的主导性物理瓶颈。此时，掩模版上一个看似简单的矩形线条，在硅片上投射出的并非理想阶跃函数，而是一条被严重弥散、肩部塌陷、端头回缩、线宽局部收缩的模糊轮廓——这正是光学邻近效应（Optical Proximity Effect, OPE）最直观、也最致命的呈现。