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6.1 浸没式光刻（Immersion Lithography） 第六章：先进光刻技术 6.1 浸没式光刻（Immersion Lithography）：突破衍射极限的液态透镜革命 当阿斯麦（ASML）在2004年向全球晶圆厂交付首台XT:1250i浸没式光刻机时，没有人预料到——这台看似只是“把镜头泡进水里”的设备，竟成了延续摩尔定律最关键的临门一脚。 会员。《6.1 浸没式光刻（Immersion Lithography）》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

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原文： https://aiknowledge.cn/collection/857-%E5%85%89%E5%88%BB%E5%B7%A5%E8%89%BA%E5%AD%A6

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