7.1.2 抗蚀剂显影模型（Dill模型、Mack模型）

文档摘要

7.1.2 抗蚀剂显影模型（Dill模型、Mack模型）在光刻仿真这条精密得近乎苛刻的技术长河中，成像链的终点从来不是曝光完成的那一刻——它只是真正挑战的起点。当紫外光穿过掩模、经投影物镜聚焦、在光刻胶表面写下纳米尺度的“潜影”之后，那个肉眼不可见、却决定最终图形 fidelity 的化学战场，才刚刚点燃引信。这里没有机械位移，没有光学衍射，只有一场由光子引发、由分子动力学驱动、由扩散与反应速率主宰的微观战争。而抗蚀剂显影模型，正是我们为这场战争构建的第一座数字沙盘；它不渲染光影，却必须精确复现酸扩散的毛细渗透、交联反应的阈值跃迁、以及溶剂侵蚀下聚合物链崩解的临界瞬间。