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7.2 源掩模联合优化（SMO） 第七章：计算光刻与建模 7.2 源掩模联合优化（SMO）：在衍射极限边缘重构光的意志 当光学光刻迈入193 nm浸没式时代，再向13.5 nm极紫外（EUV）艰难过渡时，一个根本性问题日益尖锐：我们不再是在“制造更小的图形”，而是在“重建光与物质相互作用的因果秩序”。传统光刻中，光源、掩模、投影物镜与光刻胶被视作彼此解耦的独立模块——光源由曝光机厂商固化为环形或偶极形；… 会员。《7.2 源掩模联合优化（SMO）》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，原作者/来源：灏天文库，整理自「灏天文库」，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。本站整理收录，版权归原作者/开源协议所有。

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作者与出处

原作者： 灏天文库

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原文： https://aiknowledge.cn/collection/857-%E5%85%89%E5%88%BB%E5%B7%A5%E8%89%BA%E5%AD%A6

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