文档摘要

8.1.2 粗糙度（LWR/LER）的定义与测量 在半导体前道工艺的微观世界里，线条不再是一条光滑的理想边界——它更像一条被风蚀刻过的海岸线，在纳米尺度上蜿蜒、起伏、喘息。当逻辑节点迈入7nm以下，单个晶体管的栅极长度已逼近物理极限，此时决定器件电学性能稳定性的，早已不是平均线宽（CD）本身，而是那条“线”的边缘究竟有多“毛糙”。 会员。《8.1.2 粗糙度（LWR/LER）的定义与测量》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。文档编号62435。

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