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2.1.2 深紫外准分子激光（KrF 248nm, ArF 193nm） 2.1.2 深紫外准分子激光（KrF 248 nm, ArF 193 nm）：从气体放电物理到光刻产线级稳定输出的工程实现全链路解析 你有没有站在一台正在运行的ArF浸没式光刻机旁，听见过那声低沉、短促、近乎心跳般的“砰”——不是爆炸，而是高压预电离脉冲在氟化氩（ArF）混合气体中撕开一条瞬态导电通道时，等离子体雪崩击穿所释放的声学冲击？那一声之后，0. 会员。《2.1.2 深紫外准分子激光（KrF 248nm， ArF 193nm）》收录于灏天文库文集《光刻工艺学》，提供技术教程、实践指南与问题解决方案，支持在线阅读、全文检索与知识沉淀，助力开发者系统化学习。文档编号62353。

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