6.2 多重图形技术（Multiple Patterning）

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6.2 多重图形技术（Multiple Patterning）第六章：先进光刻技术 6.2 多重图形技术（Multiple Patterning）：在物理极限边缘重构空间秩序的系统性工程当波长为193 nm的ArF浸没式光刻机——这台曾被誉为“人类精密制造巅峰之作”的光学仪器——在22 nm节点遭遇分辨率公式 $\mathrm{CD} = k1 \cdot \lambda / \mathrm{NA}$ 的无情围剿时，半导体工业并未选择退守。它没有等待EUV光刻机那姗姗来迟的13.5 nm软X射线光源，而是以一种近乎倔强的工程智慧，在既有光学框架内，重新定义了“一束光能刻出多少线条”。