GPU制造工艺：从FinFET到GAA晶体管 深度解析GPU芯片制造工艺，涵盖FinFET、GAAFET、EUV光刻、先进封装等前沿半导体技术，为工程师提供完整的工艺知识体系 教程简介 本教程系统讲解GPU芯片制造工艺的全流程，从基础的晶圆制备、光刻技术，到核心的刻蚀、沉积、离子注入工艺，再到先进的互连技术和后端制程。内容涵盖FinFET、GAA等先进晶体管技术，EUV极紫外光刻，以及先进封装与Chiplet技术。适合半导体工艺工程师、GPU架构师、集成电路设计人员学习参考，帮助读者全面掌握GPU制造技术的核心原理和工程实践。 学习路径 阶段 | 章节 | 预计时长 基础 | 第1章：半导体制造工艺基础 | 8-12小时 核心 | 第2章：GPU晶体管技术演进 | 10-15小时 进阶 | 第3章：GPU工艺节点详解 | 12-18小时 专项 | 第4章：EUV极紫外光刻技术 | 6-10小时 综合 | 第5章：先进封装与Chiplet | 8-12小时 前瞻 | 第6章：GPU工艺路线图与挑战 | 4-8小时 目录大纲 半导体制造工艺基础 ✅ 1.1 晶圆制备与光刻基础 ✅（配图完整） 1.2 刻蚀、沉积与离子注入 ✅（配图完整） 1.3 互连工艺与后端制程（BEOL） ✅（配图完整） GPU晶体管技术演进 ✅ 2.1 平面晶体管到FinFET的演进 ✅ 2.